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1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
1700℃兩路浮子供氣... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為...
1200℃三路供氣低真... 1200℃三路供氣低真空度旋轉CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為風冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可調。...
1200℃單溫區(qū)3路質... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
1200℃單溫區(qū)3路質... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
1200℃單溫區(qū)三通道... 1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)管式爐由精密...
全自動CVD滑軌爐全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質...
1200℃三溫區(qū)三通道... 1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調...
1200℃三溫區(qū)旋轉自... 1200℃三溫區(qū)旋轉自動進出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉自動進出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速...
兩通道CVD系統(tǒng) 本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機、數(shù)字真空計且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實驗。
1200℃三通道CVD... 該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發(fā)生器四大部分構成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實驗和各種科研要...
三溫區(qū)1600 CVD... 該三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng)主要用于真空燒結、氣氛保護性燒結、真空鍍膜各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
立式三溫區(qū)管式爐立式三溫區(qū)管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理
超聲波霧化立式單溫區(qū)管... 超聲波霧化立式單溫區(qū)管式爐是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對于合成各種納米結構氧化物以及納米材料的復合包覆工藝。此款儀器有三個...
真空立式淬火爐真空立式淬火爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通...
高真空立式淬火爐真空立式淬火爐CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于...
立式流化床管式爐該款立式流化床管式爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對粉末實驗。立式流化床管式爐儀器采用先進的PID智能控溫，控溫精度...

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