RTP快速退火爐是我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設備。RTP快速退火爐采用進口紅外加熱管加熱，造型新穎結(jié)構(gòu)合理，爐體和爐管可以自由滑動，可實現(xiàn)快速升降溫。爐管內(nèi)尺寸120mm，可以直接放下4英寸的材料，試樣反應區(qū)處在一個密閉的石英腔體內(nèi)，在完成生產(chǎn)工藝的同時也大大降低了間接污染試樣的可能性。設備配備LCD高清觸摸屏，設定數(shù)據(jù)實驗操作均為圖文界面，操作方便快捷易上手，能夠大大提高您的實驗效率。設備預留了真空和氣路的快速接口，可以選購我們的真空系統(tǒng)和混氣系統(tǒng)一起使用。

RTP快速退火爐應用領域：

  快速退火爐設備，可用于快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化、硅化、擴散、化合物半導體退火、離子注入后退火、電極合金化、晶化和致密化、合金熔點分析、薄膜沉積等。

RTP快速退火爐技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品型號	CY-RTP1000-Φ150-400-T
爐管材質(zhì)	高純石英
爐管直徑	120mm
爐管長度	500mm
爐膛長度	440mm
加熱區(qū)長	400mm
恒溫區(qū)長	200mm
工作溫度	0～1000℃
升溫速度	推薦80℃/s，快升溫速度100℃/s
降溫速度	200℃以上≤25min
控溫精度	±1℃
控溫模式	8段
顯示模式	LCD觸摸屏
密封方式	304不銹鋼真空法蘭
法蘭接口	1/4英寸卡套接頭(?8寶塔嘴接頭)
可抽真空	4.4E-3Pa 分子泵
供電電源	AC:220V 50/60Hz

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