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產(chǎn)品列表
  • PLD脈沖激光濺射沉積... 該PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料,尤其適用于生長高熔...
  • 熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復合... 熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復合型鍍膜儀適用于掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作,以及非導體材料試驗電極的制作等
  • 碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合... 碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射,它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理,碳鎢蒸...
  • 等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍... CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀,可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡...
  • 等離子濺射和碳蒸發(fā)二合... 等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置,配有雙級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵,可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺小型機器...
  • 小型高真空二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
  • 多功能鍍膜儀 多功能鍍膜儀是我公司獨立研發(fā)的新型產(chǎn)品,既可進行等離子濺射法鍍膜,也可進行蒸發(fā)鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片...
  • 高真空多弧離子鍍膜儀 CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍)...
  • 等離子濺射和蒸發(fā)二合一... 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
  • 電子束蒸發(fā)鍍膜 該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理...
  • 桌面型二合一鍍膜儀 本產(chǎn)品為二合一鍍膜儀,可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備
  • 毫米級恒溫提拉涂膜機 該毫米級恒溫提拉涂膜機是我公司研發(fā)的以毫米米為計量,專用于液相中提拉涂膜設(shè)計的儀器,該產(chǎn)品可通過垂直提拉在恒溫場液體中的...
  • 多弧離子鍍膜儀 本設(shè)備為多弧離子鍍膜設(shè)備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時,將蒸發(fā)...
  • 五工位提拉涂膜機 CYTL-OV5P五工位提拉涂膜機是我公司研發(fā)的一款用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜,*多可達五層。本機廣泛用于納米、...
  • 雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜... 雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規(guī)管,進氣系統(tǒng)和...
  • 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時,將蒸發(fā)物或反應物沉積...
  • 六工位提拉涂膜機 CYTL-OV6P六工位提拉涂膜機在相同外界條件下,對多個樣件在不同液相中進行提拉涂膜,主要用于納米材料研究、表面處理及...
  • 離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其...
  • 微米級恒溫提拉涂膜機 該微米級恒溫提拉涂膜機是我公司研發(fā)的以微米為計量,專用于液相中提拉涂膜設(shè)計的儀器,該產(chǎn)品可通過垂直提拉在恒溫場液體中的樣...
  • 小型二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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