- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
超聲波霧化立式單溫區(qū)管式爐是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對(duì)于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物以及納米材料的復(fù)合包覆工藝。此款儀器有三個(gè)主要模塊組成：超聲霧化裝置、1200℃單溫區(qū)立式管式爐和靜電收集裝置組成。材料制作大概分為三個(gè)步驟：前驅(qū)體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統(tǒng)是一款較為先進(jìn)的合成系統(tǒng)，可控制器顆粒尺寸，形態(tài)，微納米結(jié)構(gòu)等，可廣泛應(yīng)用于納米材料制備、電極材料包覆復(fù)合等方面
立式管式爐技術(shù)參數(shù)：
|
電源 |
單相 AC 220V, 50/60 Hz |
|
超聲波發(fā)生器和噴嘴 |
*大功率: 30W 超聲波頻率：50KHz 適用液體粘度：≦30cps 粒徑：20-25um 噴霧流速：0.01-20ml/min 可接受的懸浮粒徑：≦10um 可接受的懸浮固體含量：≦30% 噴涂寬度：2-20mm 導(dǎo)流氣壓：0.05Mpa |
|
連續(xù)溫度 |
*高1100℃ |
|
*大加熱速率 |
≤ 20℃/min. |
|
溫度精度 |
+/- 1℃ |
|
管尺寸和材料 |
包括一根 1000 毫米長(zhǎng)的石英管 外徑：100 毫米，內(nèi)徑。 95 毫米 包括帶有氧化鋁涂層的泡沫陶瓷塊，它懸掛在法蘭頂部，以保護(hù)因熱輻射而損壞的 O 形圈 |
|
加熱元件 |
合金電阻絲 |
|
加熱區(qū)長(zhǎng)度 |
400mm |
|
恒溫區(qū) |
200 mm |
|
溫度控制器 |
30 個(gè)可編程段，用于**控制加熱速率、冷卻速率和停留時(shí)間。 內(nèi)置 PID 自整定功能，具有過(guò)熱和熱電偶斷線(xiàn)保護(hù)功能。 過(guò)溫保護(hù)和警報(bào)允許在沒(méi)有服務(wù)人員的情況下進(jìn)行操作。 控溫精度：+/-1℃ |
|
真空密封法蘭 |
包括兩個(gè)帶真空計(jì)和閥門(mén)的不銹鋼法蘭 頂部出氣口（真空口） 底部進(jìn)氣口 |
|
集粉裝置 |
在底部 |
|
10E-2 Torr 機(jī)械真空泵 抽速：1.1L/s |
|
|
凈重 |
大約 80 kg |
|
納米粉體收集器 |
高壓電源 |
輸出電壓：0-30000V，可調(diào) |
|
輸出電流：≤1mA |
||
|
管狀靜電收集器 |
正負(fù)極板安裝在集電器內(nèi) |
|
|
連續(xù)液體進(jìn)料器 |
高精度蠕動(dòng)泵 |
轉(zhuǎn)速范圍：0.01-600rpm 流量范圍：0.0008ml-2400ml/Min |
