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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì),?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。
詳情介紹:
CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS往復(fù)樣品臺(tái)型雙磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,設(shè)備配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制,內(nèi)置一鍵式鍍膜程序,操作簡(jiǎn)單易上手,是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備

技術(shù)參數(shù):

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

4KW

極限真空度

5x10-4Pa

載樣臺(tái)參數(shù)

尺寸

100mm x 100mm

往復(fù)行程

200mm

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個(gè)2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷,所需流速10L/min

水冷機(jī)規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)

真空腔體

腔體尺寸

φ500mm X 490mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開(kāi)啟方式

前開(kāi)門(mén)式

氣體流量控制器

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM  Ar  

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S

膜厚儀

石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源1臺(tái),500W,適用于制備金屬膜

射頻電源1臺(tái),500W,適用于非金屬鍍膜

操作方式

CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

整機(jī)尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整機(jī)重量

350kg




豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)