- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品特點(diǎn)
1：此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍：一個(gè)靶槍配套的是射頻電源，用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜；一個(gè)靶槍配套的是直流電源，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜
2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。
3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。
產(chǎn)品參數(shù):
項(xiàng)目
明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSH500- II-DCRF-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機(jī)功率
4KW
系統(tǒng)真空
≦5×10-4Pa
樣品臺(tái)
外形尺寸
φ140mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環(huán)水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ500mm，高度560mm
腔體材質(zhì)
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開啟方式
頂開式
氣體控制
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統(tǒng)
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S
膜厚測(cè)量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
直流電源500W,射頻電源500W
控制系統(tǒng)
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)
設(shè)備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設(shè)備重量
350kg
