- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
電弧熔煉爐介紹：
本品是一款小型真空電弧熔煉爐，采用鎢電極和水冷銅坩堝。設(shè)備熔煉溫度可超過 3000℃，且降溫迅速。采用不銹鋼水冷腔體，配有石英觀察窗觀測樣品熔煉情況，非常適合樣品熔煉和熱處理，相圖研究。熔煉時，金屬放置在水冷銅坩堝內(nèi)，根據(jù)工藝需要，爐內(nèi)可充入高純的惰性保護氣體，利用電弧產(chǎn)生的高溫等離子體融化金屬。多工位銅坩堝可用于多種少量（每個工位大概3g~5g）的金屬依次熔煉，配合側(cè)邊操縱桿可以在熔煉之后進行翻動，銅坩堝中部有一個較大的工位可用于合金的混合熔煉（可容納約25g）。熔煉爐還配有真空吸鑄模具，用戶可用簡單工具自行更換安裝，替換后可實現(xiàn)真空吸鑄功能，可制成圓柱形的金屬試樣，便于后續(xù)的切割、夾持、分析等操作。
電弧熔煉爐特點：
該設(shè)備具有體積小，性能穩(wěn)定，操作簡單，功能全 面使用方便等優(yōu)點，非常適合實驗室進行小劑量的金屬樣品研究。
電弧熔煉爐應(yīng)用領(lǐng)域：
適合樣品熔煉和熱處理，相圖研究。
電弧熔煉爐技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
真空電弧熔煉爐 |
|
產(chǎn)品型號 |
CY-IVΦ200-18KW-SS |
|
供電電壓 |
AC380V（三相）或者AC220V，50Hz |
|
電源功率 |
可定制，默認(rèn)18kW（三相380V）/13kW（AC220V） |
|
腔體材質(zhì) |
不銹鋼 |
|
冷卻方式 |
水冷腔體、水冷電極、水冷銅坩堝 |
|
腔體尺寸 |
O.D φ200mm×H.180mm |
|
觀察窗直徑 |
40mm |
|
坩堝 |
水冷銅坩堝 7個工位，其中六個工位φ25mm×9mm，中間大工位φ40mm×12mm可用于混合熔煉合金 |
|
真空吸鑄模具坩堝，φ40mm×12mm |
|
|
水冷接頭 |
1/4英寸快插接口 |
|
真空接口 |
KF16法蘭 |
|
真空泵 |
旋片泵，可選配分子泵組 |
|
進氣接口 |
1/4英寸快插接口 |
|
進氣閥門 |
不銹鋼針閥 |
|
真空計 |
2.5級指針式真空計 |
|
總體尺寸 |
600mm×500mm×800mm（不含真空系統(tǒng)及外置電源） |
○ 免責(zé)聲明
本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。
