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小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護(hù)性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購(gòu)。
本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄；腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSZ254-I-DC-SS
樣品臺(tái)
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ254mm X 300mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
304不銹鋼
開(kāi)啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級(jí)泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測(cè)量
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級(jí)泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
直流電源一套
輸出功率
直流電源300W
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機(jī)功率
2kW
整機(jī)尺寸
550mm X 350mm X450mm
