產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品

產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
石墨烯制備爐的溫度、氣流及真空采用計算機控制,其中部分功能也可以采用手動控制。計算機實時控制和顯示所有與生長有關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),給實驗帶來極大的方便,并提高實驗的**性。
詳情介紹:
石墨烯制備爐的主要技術(shù)參數(shù):
溫度范圍:室溫~1050度
整機功率:2.5 kW
末端口為:不銹鋼法蘭接口,外置水冷卻
進樣方式為:手動
氣體成分有:
Ar:純度99.999%以上,40L,配惰性氣體減壓閥,流量0-1000 sccm;
H2:純度99.999%,40L,配氫氣減壓閥,流量0-200 sccm;
CH4:純度99.999%,40L,配減壓閥,流量0-10 sccm (更大量程可選);
13CH4:純度99% (1%為12CH4),10L,配專用減壓閥,流量0~10 sccm (同位素選件);
該系統(tǒng)的溫度、氣流及真空采用計算機控制,其中部分功能也可以采用手動控制。石墨烯制備爐采用計算機實時控制和顯示所有與生長有關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),給實驗帶來極大的方便,并提高實驗的**性。
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